課(ke)程描述(shu)INTRODUCTION
比較應用技術和方法
日程安排SCHEDULE
課(ke)程大綱(gang)Syllabus
培訓目標
為了檢定某總體的特性利用樣本數據的假設檢驗
對某總體設定的假設檢驗的判定步驟
多個總體設定的假設檢驗的判定步驟
使用Minitab來(lai)進行(xing)比較分析,得(de)出結果變得(de)方(fang)便容易
課程大綱
一概述
1.為什么要學習比較分析
2.什么是比較分析
3.比較分析的流程圖
二假設檢驗
1.假設檢驗問題
2.假設檢驗的基本步驟
3.P-值另一(yi)個判斷準則
三單個正態均值μ的u檢驗(s已知)
1.單個正態均值μ的假設檢驗(s已知)
2.單個正態均值μ的假設檢驗(s已知)實例分析
3.課堂練習一——三極(ji)管的放大倍數是否降低檢驗(yan)
四單個正態均值μ的t檢驗(s未知)
1.單個正態均值μ的假設檢驗(s未知)
2.單個正態均值μ的假設檢驗(s未知)實例分析
3.課堂練習二——硅片用化學品的儲存期限檢驗
4.應用Minitab進(jin)行(xing)實例(li)分析的操作(zuo)步(bu)驟與評判標準
五單個正態方差s2的c2檢驗
1.單個正態方差s2的假設檢驗
2.單個正態方差s2的假設檢驗實例分析
3.課(ke)堂練習三——等離子(zi)體(ti)刻蝕(shi)器的合格性檢驗
六兩個正態總體均值μ的u檢驗(s已知)
原假設、備擇假設、檢驗統(tong)計(ji)量、拒(ju)絕域
七兩個正態總體均值μ的t檢驗(s1=s2,s未知)
1.原假設、備擇假設、檢驗統計量、拒絕域
2.兩個正態總體均值μ的檢驗(s1=s2,s未知)實例分析
3.課堂練習四——兩臺光刻機工藝的線寬均值有無顯著差異
4.應用(yong)Minitab進行實(shi)例分析的(de)操作步(bu)驟(zou)與評判標準
八兩個正態總體均值μ的t檢驗(s11s2,s未知)
原假設、備擇(ze)假設、檢驗(yan)統(tong)計量、拒絕(jue)域
九兩個正態方差比較的F檢驗
1.兩個正態方差s2的假設檢驗
2.兩個正態方差s2的假設檢驗實例分析
3.課堂練習五——Fab3LIS05光刻機上線檢驗
4.應(ying)用Minitab進行實例分析的操(cao)作步驟與評判標(biao)準
十成對數據比較
1.成對數據的假設檢驗
2.成對數據的假設檢驗實例分析
3.成對數據的假設檢驗二種方法的比較與分析
4.課堂練習六——設備做保養前后有無顯著改善檢驗
5.應用(yong)Minitab進行實例分析的操作步(bu)驟(zou)與評判標準
十一多組數據比較
1.多組數據的假設檢驗實例分析
2.課堂練習七——多臺設備的工藝比較有無顯著異常檢驗
3.應(ying)用Minitab進行實例分析(xi)的操作步驟與評(ping)判(pan)標準
十二練習
1.確定C2F4流率對刻蝕硅片的均勻性是否有影響檢驗
2.兩臺用來充裝的機器凈容量均值檢驗
3.等離子體刻蝕器的合格性試驗
4.制鞋材料壽命長短的檢(jian)驗(yan)實驗(yan)
十三微電子有關比較*成果閱讀材料
1.樣本與置信區間
2.獨立性問題探討
3.Box-CoxTransformations問題
4.非參(can)數統計方法
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已開課時間(jian)Have start time
培訓開發內訓
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